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> 半導(dǎo)體制造
中微公司:上半年歸母凈利潤(rùn) 7.06 億元,同比增長(zhǎng) 36.62%
中微公司2025年上半年?duì)I收49.61億元,凈利7.06億元,刻蝕設(shè)備銷售增長(zhǎng)40.12%,LPCVD設(shè)備銷售激增608.19%。
2025-08-28
華虹半導(dǎo)體擬收購華力微控股權(quán)
華虹半導(dǎo)體擬收購華力微控股權(quán),解決同業(yè)競(jìng)爭(zhēng)問題,整合65/55nm至40nm工藝資產(chǎn),提升生產(chǎn)效率。
2025-08-18
橫店集團(tuán)東磁股份有限公司推出新型硅片檢測(cè)剔除系統(tǒng)
橫店集團(tuán)東磁股份有限公司近日公開了一項(xiàng)名為“硅片檢測(cè)剔除系統(tǒng)及硅片檢測(cè)剔除方法”的發(fā)明專利,該系統(tǒng)通過自動(dòng)化技術(shù)有效清除硅片生產(chǎn)中的疊片及碎片問題。
2025-01-01
蘇州東微半導(dǎo)體股份有限公司公開新型IGBT器件制造方法
蘇州東微半導(dǎo)體股份有限公司近日公開了一項(xiàng)新型IGBT器件的制造方法,該方法通過減少光刻工藝次數(shù),顯著降低了制造成本。
2025-01-01
合肥晶合集成電路股份有限公司發(fā)布新型半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)專利
合肥晶合集成電路股份有限公司近日公開了一項(xiàng)名為“半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制備方法”的發(fā)明專利,該專利通過創(chuàng)新的兩步通孔形成技術(shù),有效解決了半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵問題。
2025-01-01
上海感圖網(wǎng)絡(luò)科技有限公司推出晶圓背面缺陷檢測(cè)新方法
上海感圖網(wǎng)絡(luò)科技有限公司近日公開了一項(xiàng)名為“晶圓背面缺陷檢測(cè)方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)”的發(fā)明專利,該技術(shù)旨在提高晶圓背面缺陷檢測(cè)的效率。
2025-01-01
中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院股份有限公司推出新型超純水凈化設(shè)備
中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院股份有限公司近日公開了一項(xiàng)新型超純水二階凈化設(shè)備及凈化工藝的發(fā)明專利,該技術(shù)旨在為納米半導(dǎo)體制造提供更高品質(zhì)的超純水。
2025-01-01
中芯國(guó)際發(fā)布新型晶圓分類方法,提升工廠產(chǎn)能預(yù)測(cè)精度
中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司與中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司聯(lián)合申請(qǐng)了一項(xiàng)名為“對(duì)晶圓產(chǎn)品進(jìn)行分類的方法和系統(tǒng)”的發(fā)明專利。該專利通過外部特征和出貨量數(shù)據(jù)對(duì)晶圓產(chǎn)品進(jìn)行雙重分類,旨在簡(jiǎn)化
2025-01-01
盛美半導(dǎo)體推出新型電鍍?cè)O(shè)備,提升電鍍效率與均勻性
盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司近日公開了一項(xiàng)名為“電鍍?cè)O(shè)備及電鍍方法”的發(fā)明專利,該技術(shù)通過創(chuàng)新的攪拌機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)模式,顯著提高了電鍍效率并實(shí)現(xiàn)了均勻電鍍效果。
2024-12-31
盛美半導(dǎo)體推出新型電鍍?cè)O(shè)備攪拌機(jī)構(gòu),提升
半導(dǎo)體制造
精度
盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司近日公開了一項(xiàng)名為“電鍍?cè)O(shè)備的攪拌機(jī)構(gòu)、電鍍?cè)O(shè)備及電鍍方法”的發(fā)明專利,該技術(shù)通過優(yōu)化攪拌機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì),有效解決了半導(dǎo)體制造過程中晶圓缺口區(qū)域電鍍高度過高的問題。
2024-12-31
三星電子2nm制程量產(chǎn)測(cè)試進(jìn)展順利,預(yù)計(jì)2025年試生產(chǎn)
三星電子正在對(duì)其下一代2nm先進(jìn)制程進(jìn)行量產(chǎn)測(cè)試,初始良率超出預(yù)期。公司計(jì)劃于2025年上半年啟動(dòng)試生產(chǎn),并已獲得多家企業(yè)的代工訂單。
2024-12-31
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